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光化學反應儀的技術參數時間:2022-03-07 11:07:27 瀏覽:

       于是研究者們轉換思路,提出了通過納米碳化物彌散、細晶強化和晶界凈化來協同提升鉬合金綜合性能的方法。研究者們通過通過計算模擬發現鉬合金晶/相界面上間隙氧的偏聚會顯著降低其強度和延展性,而間隙碳原子和碳化鋯顆粒能有效提高界面的強度,于是決定采用納米碳化鋯顆粒作為增強相,利用它能吸收雜質氧,降低其對晶界的脆化作用,改善晶界結合及低溫韌性,達到從晶粒的層面提高材料的強度和高溫穩定性,這樣配比的合金其納米顆粒與基體之間形成的界面還能吸收輻照缺陷,進而也就改善了鉬合金材料的抗輻照性能。光化學反應儀   經過不斷地試驗,研究團隊通過粉末冶金法和高溫旋鍛制備了室溫及高溫下均具有優異力學性能的納米結構鉬—一碳化鋯合金。該納米結構合金的溫室抗拉強度達到928兆帕、延伸率為34.4%,比工業中廣泛應用的鉬鈦鋯合金(TZM合金)分別提高26%和一倍以上;在1000℃時,鉬—一碳化鋯合金的抗拉強度達到562兆帕,比純鉬、其他納米結構合金提高50%以上。在1200℃高溫下,鉬—一碳化鋯合金的強度優勢更為顯著光化學反應儀 ,其抗拉強度比氧化物彌散強化鉬提高一倍以上,同時保持優良塑性。在1200℃高溫下則強度更為優異,同時還能保持優良塑性。不僅如此,該合金的再結晶溫度比純鉬提高了約400℃,具有優良的高溫穩定性。 

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